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净化技术设备(bèi)发展和应用(yòng)趋势

发布日期:2017-08-19 作者: 点(diǎn)击:

 洁(jié)净技术又称为生产环境和污染控制技术,是近二、三(sān)十年来随着高(gāo)新技术发(fā)展(zhǎn)起来的(de)一门综合性的新兴科学技术。洁净技术专门研究并提(tí)供洁净的生产工艺环境和生产过程中使用(yòng)的(de)各种(zhǒng)高纯介(jiè)质,有效地控制微(wēi)量杂(zá)质,以保证高科技产品的成品率和可(kě)*性。洁净技术通常包括:空气净(jìng)化技术、空调(diào)技术、水纯化技术、气体纯化技术、微量杂质控制技(jì)术、洁净环境的(de)监测技术及相(xiàng)关的环境质量的(de)控制(zhì)技术。净化工程(chéng)技术在(zài)电子(zǐ)、核子、航空(kōng)航(háng)天、生物(wù)工程、制药、精密机械、化工、食品、汽车制造等(děng)高科技工业领域及现代(dài)科(kē)学领域中得到广泛(fàn)应(yīng)用。净化洁净工程

对于半导体设(shè)备来讲,净化工程技术在微电子技术中起着十分重要的作用。微电子技术的核(hé)心是集成电路,而集成电路的生产对其工艺环境和工(gōng)艺流程中的净化技术(shù)和设备提出了严格的要求。我国“九五”期(qī)间大力(lì)发展以(yǐ)微电子为重点的信息产业。净化工程技术水平(píng)在某种意义上已成为衡量一个(gè)国家(jiā)和地(dì)区科学技术水平和工业水平的一个重要标志。
  随着我国人民生活水平提高,人们对生存环境及生活质量提出了越来越高要求,用(yòng)水纯化设备(bèi)制备的高纯水(shuǐ)已受到人们普遍欢迎,净化(huà)工程技术已开始进入千家万户,进入人们的现代生活。
   我国的洁净技术和设备与国外先进国(guó)家相比差距是明显的,我国1965年才开始生(shēng)产的(de)HEPA过滤器,比国外晚了十五年。1975年开始(shǐ)生产的(de)光散射尘(chén)埃粒子计数器比国外晚了二十年(nián)。0.1微米洁净技术和设备(bèi)在国际上先进国家已(yǐ)成(chéng)为成熟技术,我国则(zé)刚刚起步。
   世界各工业先进国家为适应超净技术的发展(zhǎn),对大量使用的高效过滤器的研究从(cóng)未(wèi)中断,几年来一直在开发不(bú)同结构不同性能的新产品,美国自1979年开始研(yán)制0.1微米ULPA过滤器,1984年美国AAF公司开始生产0.1微米无隔(gé)板ULPA过滤器,目前0.1微米ULPA过滤器(qì)在美国AAF公司、FLANDERS公司和CAMBRIDGE公司(sī)已(yǐ)形成商品化生产。日本也(yě)已成为世界上生产0.1微米ULPA过滤器厂家多(duō)的国家,品种繁多,产品系列化,尤其是(shì)低压损型0.1微米ULPA过(guò)滤器的开发成功解决了初阻力大的技术难题。国际(jì)市场对高(gāo)效空气过滤器的需求量很大,且每年均有增长,目前日本每年销售超过100万台,按每台平均(jun1)价格200美元计算,销售额达2亿美元。我国(guó)高效空气过滤器市场需求(qiú)量已接近每年10万台(tái),占国(guó)际市场(chǎng)的2%~4%,但至今还没(méi)有0.1微米ULPA过滤器生产,用于超大规模集成电路生产洁(jié)净厂(chǎng)房及各(gè)种(zhǒng)高科技领域洁净厂房的0.1微(wēi)米ULPA过滤(lǜ)器目前还要依赖进口。
  在(zài)洁净室建设规模和技(jì)术水平(píng)上,我国(guó)与先进国家差距更大。日本清水建设公司一家,1982年到1987年期间承建的洁净室面积达71.8万平方米,而我国目前(qián)一年承建的洁净室(shì)总面积还(hái)不到10万平方米,但八五(wǔ)期间有较(jiào)大发展,1993年承建(jiàn)洁净室总面积已接近15万平方米。美国的洁净室建设规模更大,1998年(nián)统(tǒng)计已达188.5万平方米。在洁净工程(chéng)技术水平上,80年代末期(qī),国外已大量建成0.1微米级的超净室,1987年日本三洋新泻工场建成十(shí)级洁净厂(chǎng)房3000平方米,NIT原木则建成了四个1000平方米控制0.1微米尘埃的千级厂房,换气次数高达300次/分。美国在台湾的TSMCS新厂已建成第四代管道式洁净室总(zǒng)面积达10000平方(fāng)米。我国使用的0,1微米十级洁净室主要依赖从国外进口。由于高洁净级别的(de)洁净室造价十分昂贵,0.1微米十级洁净室每平方米造价高达1万美元以上。在大规模集成电路制造装备的投资中洁净厂房占有相当高的比例,这(zhè)与集成电路工艺不断更新,产品更新换代周期越来越快的发展趋势不相适应(yīng),严重(chóng)制约了大规模集成电路技术的发展。美国ASYST公司、德(dé)国MW公司发(fā)展的使用隔离技术的亚微(wēi)米生产微环境系统设备和技术在近几年中得到广泛采用。该项新的洁净技术在(zài)100级(jí)洁净度的洁净厂房中,采用工艺设备局部(bù)使用隔离技术的微环境,把投资比例压缩到高级别的微环境,消除了操作者与工艺设备运行的二次污染源产(chǎn)生对集成电路成品率(lǜ)和可(kě)*性的影响作用。
  洁净技术和装备的国际市(shì)场(chǎng)十分巨(jù)大,日本到80年代末、90年代初(chū)洁净技术和设备的销售额已突破35亿美元。美国和(hé)西欧等先进国家洁净设备和基础部(bù)件的销售额已(yǐ)达73亿美(měi)元。据中国(guó)电子专用设备工(gōng)业(yè)协会统(tǒng)计,我国(guó)主要八家大(dà)的净化设备(bèi)厂的销售额1990年为(wéi)8217万元,还(hái)不足1亿,1993年达到14495万元,占国际市场销售额的0.34%。但随着我国(guó)高新技(jì)术的(de)迅速(sù)发(fā)展和微电子工业、光纤(xiān)工业、液晶显示工业及光电器件工业、生物工程、医(yī)药工业的发展,我国潜在的巨大的洁净技术产品市场,以每年(nián)40%~50%的增长速(sù)度在(zài)增(zēng)加。

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